单晶硅是一种良好的半导材料，其纯度要求达到99.9999％，甚至达到99.9999999％以上。主要用于制造半导体器件、太阳能电池等。在能源日益短缺的今天，太阳能的利用正成为全球共同关心的话题。相关产业，尤其是太阳能用的单晶硅/多晶硅生产更是发展势头迅猛。据估算到2010年太阳能电池用多晶硅的需求量至少在30000吨以上。此外，半导体及信息产业的蓬勃发展，也使得半导体行业对单晶硅/多晶硅的需求急剧增加。

目前，国际上单晶硅大多数是用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成，而多晶硅生产的主要采用了改良西门子法，将三氯氢硅还原得到多晶硅。因此，控制三氯氢硅的纯度，降低其中的杂质含量，就成为生产高纯多晶硅和单晶硅产品的关键因素之一。

三氯氢硅在常温常压下为具有刺激性恶臭，易流动、易挥发的无色透明液体。三氯氢硅在空气中极易燃烧，在-18℃以下也有着火的危险，遇明火则强烈燃烧。三氯氢硅蒸气能与空气形成浓度范围很宽的爆炸性混合气，受热时引起猛烈的爆炸，且与水将发生激烈反应。所以，对三氯氢硅检测难度极大。而三氯氢硅作为生产高纯度多晶硅和单晶硅的中间产品，其质量控制极为关键，必需使用高精度的痕量检测手段对杂质含量进行检测，以便调整生产工艺，保证产品质量。

提供目前进行三氯氢硅分析的国际通用方法，包括以下方面：

• 三氯氢硅杂质检测的样品前处理过程；
• 三氯氢硅杂质检测所需的配套设施、试剂及耗材；
• 三氯氢硅杂质检测的干扰因素及干扰的消除；
• 三氯氢硅杂质检测结果的评价及方法验证。

课程目的：	了解三氯氢硅杂质检测的内容，学习掌握其检测方法。 帮助学员遵循行业规定，完成三氯氢硅杂质检测日常分析工作。 了解安捷伦仪器的特点，并根据实际工作需求选择相应的仪器配置进行检测。
适用对象：	需要控制三氯氢硅产品质量的生产企业 配备Agilent ICP-MS仪器的用户 具备元素分析基本操作技能的实验室工作人员
课程内容：	目前进行三氯氢硅分析的国际通用方法介绍； 三氯氢硅杂质检测的样品前处理过程； 三氯氢硅杂质检测所需的配套设施、试剂及耗材介绍； 三氯氢硅杂质检测的干扰因素及干扰的消除； 三氯氢硅杂质检测结果的评价及方法验证； 实际实验操作。
课程长度：	三天
课程地点：	用户现场
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